高分辨率激光直写光刻机是全球领先的多功能激光光刻机，它通过固定连续的375nm或405nm紫外光源在光刻胶或紫外敏感胶中直接刻划获得微纳结构，直写面积高达6英寸，最小特征尺寸（宽度）可达1微米，适合掩膜，半导体，玻璃，晶体，薄膜等诸多衬底。

高分辨率激光直写光刻机提供竖直和扫描直写模式，确保直接轨迹偏离小于100nm。微型激光直写光刻机具有电动光学聚焦系统，提供快速精准的聚焦功能，从而适合各种厚度衬底的要求，并具有晶圆装载和卸载系统装备到衬底室供客户选配，增强清洁程度，提高工作量和用户安全程度。

高分辨率激光直写光刻机兼容大多数商用光刻胶，比如SU8，shipley, AZ等，我们还对K-CL胶特别优化，用于微结构应用。

高分辨率激光直写光刻机特色

非常紧凑的桌面型设计

掩膜制作和激光直写

激光光源375nm 或405nm 任选

兼容所有商用光刻胶

对比度高达1x20

自动聚焦

竖直直写或扫描直写模式

高分辨率激光直写光刻机参数

直线直写速度：高达500mm/s

位移台分辨率：100nm

重复精度：100nm

晶圆直写面积：1-6英寸

衬底厚度：250um-10mm

激光光斑大小：1um-50um

标准准直精度：500nm