这套无掩膜光刻机具有无掩模光刻技术的便利，大大提高无掩膜影印和新产品研发的效率，节省时间，是全球领先的无掩模光刻系统。

这款无掩模光刻机直接用375nm或405nm紫外激光把图形写到光胶衬底上。

无掩模光刻系统，无掩膜光刻机特色

尺寸：925x925x1600mm

内置计算机控制接口

激光光源：375nm或405nm

视频辅助定位系统

自动聚焦设置

无掩模光刻机，无掩膜光刻机参数

线性写取速度：>500mm/s

重复精度： 100nm

晶圆写取面积：1—6英寸

衬底厚度：250微米-10毫米

激光点大小：1-100微米

准直精度：500nm