桌面型紫外掩膜对准机是全球首款装备有紫外LED光源的mask aligner,是掩膜对准器中的理想冷光源紫外掩膜对准机。能够在4英寸工作面积上实现2微米微结构，对准精度高达3微米，广泛用于光刻掩膜对准曝光，适用于微流体芯片，微电子，光学微结构,MEMS等微纳器件的光刻制作。

桌面型紫外掩膜对准机参数

分辨率：2微米

接收掩膜大小：5英寸 （2英寸可选）

接收衬底大小：2-4英寸， 50x50mm 到 100x100mm

系统可视分辨率：3微米 （1.5微米可选）

掩膜/衬底测量距离分辨率：0.5微米

theta衬底位移分辨率：5.10-4度

XYZ衬底位移分辨率：0.4微米（0.2微米可选）

波长：365nm 或 405nm

功率密度：35mW/cm^2

曝光中衬底升温：<1摄氏度

曝光时间：1秒到18小时

可编程曝光循环：>100个

尺寸：475x475x478mm

重量：55kg

触摸屏：15.6寸彩色触摸屏

电力要求：220V

用电功耗：180W