这款紫外掩膜曝光系统是采用紫外LED冷光源的LED紫外曝光机和LED掩膜曝光机，是一种冷光源紫外LED掩膜曝光装置，它提供标准的365nm紫外线,可适用6英寸晶圆，兼容硬接触和软接触过程，并具有可变掩膜和衬底距离控制功能。

紫外掩膜曝光系统适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用，广泛用于紫外曝光固化。

紫外掩膜曝光系统是完全单色紫外发射，具有35mW/cm^2的功率密度，在6英寸的面积上光源均匀度搞到+/-10%, 是理想的高精度紫外曝光机。

这套紫外掩膜曝光系统采用了领先的LED光源技术，完全实现单波长紫外冷光源照明，有效消除热效应，非常适合实验室或超净间的紫外曝光使用。

紫外掩膜曝光系统结构紧凑，方便移动，采用触摸屏控制操作，完全有效安全控制自我曝光室。

紫外掩膜曝光系统的LED紫外光源寿命高达1万小时，非常可靠而耐用，不需要日常维护，非常方便使用。

紫外掩膜曝光系统特点

非常紧凑，桌上使用设计

完美的紫外单色LED冷光源

最大工作面积为4英寸晶圆

适合所有光刻胶

分辨率：2微米

无需预热，直接开机使用

实时温度控制功能确保均匀曝光

紫外照明功率强度可调

可单次曝光或连续曝光

适合光学，生物科技，微电子，晶圆键合，固化，细胞培养等多种应用

紫外掩膜曝光系统参数

波长：365nm

功率密度：40mW/cm^2

曝光过程中衬底温度上升：<1摄氏度

曝光时间：1秒到18小时

可编程控制循环：10个

分辨率：2微米

外部尺寸：260x 260x260mm

重量：8.2kg

彩色触摸屏：5.7英寸

供电要求：230V

用电功耗：200W