特征参数：

● 150-350mW@355nm
● 80MHz重复频率 / 12ps脉宽
● 高光束质量M²<1.3 
● 紧凑、密封、坚固的工业级操作平台确保了良好的光束性能和长期的功率稳定性。

应用：

● 半导体晶圆检查
● 细胞筛选
● 微加工
● 微型立体光刻

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• 光束特性
  项目	GENIUS-150	GENIUS-350
  波长(nm)	355nm
  功率	150mW	350mW
  重复频率1(MHz)	80MHz±1MHz
  脉宽2(ps)	＜12ps
  光束质量	TEM00(M2＜1.3)
  平均功率稳定性3(RMS)	＜2%
  偏振度	＞100:1 水平
  光斑圆度(%)	＞85%
  光束指向性4(μrad/℃)	＜20μrad/℃
  光斑尺寸5(mm)	~1mm
  一般特性
  电源输入	220 VAC ±5% 50-60Hz
  能量损耗	＜1kW
  冷却方式	闭路循环水冷
  工作条件	温度 15-35℃  湿度 ＜65%
  加热时间(min)	＜40min

          

• GENIUS 中文.pdf

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