TECHSPEC® 超快薄窗口片设计厚度为 1mm，具有有限的群延迟色散 (GDD)，非常适合超快激光应用。这些薄窗口片的两面均覆有镀膜，采用经过优化的离子束溅射法 (IBS) 宽带增透膜在 370nm 至 2.2μm 波长范围内提供低反射率。IBS 镀膜工艺也为这些窗口片提供了比传统增透膜窗口片更低的吸收损失和散射。TECHSPEC 超快薄窗口片也可用于需要外形小巧的高性能光学窗口片的一般光学应用。无镀膜薄窗口片基片（UV 熔融石英或 IR 级熔融石英）可提供定制镀膜的灵活性，以满足您的应用要求。请联系我们获取更多信息。

IR grade fused silica differs from UV grade fused silica by its reduced amount of OH- ions, resulting in higher transmission throughout the NIR spectrum and reduction of transmission in the UV spectrum.