近红外 (NIR) 线性偏振膜由耐用的聚合物基片组成，特别适合从可见光到近红外 (400 - 2200nm) 的成像应用。该偏振聚合物薄膜的平均透射率为 39%，在 760 和 2200nm 的入射随机偏振光下的偏振效率大于 99.6%。多种矩形尺寸可用于容纳从光束直径较小的低功率 NIR 激光器到较大 LED 光束的所有光源。近红外 (NIR) 线性偏振膜用于工业成像和实验室应用，即减低输出近红外激光器和 LED 的强度，或减少近红外光电检测器记录的图像中的眩光。偏振轴标记在偏振聚合物膜的保护性挡板上。

注意: 在第一次使用前，请移除保护罩。

通用规格

消光比:

407:1 (Average @ 800 - 2200nm)

波长范围 (nm):

400 - 2200

尺寸容差 (mm):

±0.25

厚度 (mm):

0.50

厚度容差 (mm):

±0.1

涂层:

Uncoated

透射率 (%) :

Single: 29 (400-760 nm), 39 (761-2200 nm)
Crossed: 0.02 (400-760 nm), 0.11 (761-2200 nm)

Polarization Efficiency (%):

99.83 @ 400 - 760nm
99.63 @ 761 - 2200nm

构造 :

Polarizing Film

基底:

Polymer Film on TAC

工作温度 (°C):

-55 to +85 (3 hours)

Transmission, Single (%):

29 @ 400 - 760nm
39 @ 761 - 2200nm

Transmission, Crossed (%):

0.02 @ 400 - 760nm
0.11 @ 761 - 2200nm

注意 :

Protective Film on Both Sides