我们的ReflX™反射物镜是和原来的反射物镜加了个可以减小P-V值的装置，可以在入射角为45度时使用。生产这种反射物镜的作用是可以达到λ/4P-V的波前，此时需要反射镜有很高的精度。为此我们的精加工中心使用QED Q22-MRF磁流体加工设备和QED SSI干涉仪来加工和检测我们的反射面形，此精度可以达到1/20ΛP-V值。

远场校正镜头可用于调焦，而有限共扼镜头可用于成像方面。当加一个200mm的二级转接镜头使，远场校正镜头也可用在成像方面。加上滤光片和分光镜后，本镜头可用在生物医疗和荧光显微方面。远场镜头的标准后截距为160mm,可与普通的DIN镜头互换.值得注意的是受光路结构的限制，这两款镜头的像面中心的亮度低，比较朦胧。

在许多情况下需要一个入射角大于45度的阵列，为了适应这些不常见的角度，惠普的RelX™ 使用锥形设计提供了一个距离物面大于6mm。

为了消除由直纹导致像面的衍射效应，HP RelX™ 采用了一个弯曲设计，所有的内部结构都在美国加工、装配、测试、并用ZYGO 干涉仪认证,而且每一个面都认证。对于客户的要求，包括激光镀膜和不同的腔长，请与我们的销售部门联系。

通用规格

放大率:

15X

数字孔径 NA:

0.28

Aperture Diameter (mm):

8.5

小型发射镜直径 (mm):

8.8

入射瞳孔 (mm):

7.4

水平视场, 1/2" 传感器:

0.43mm

水平视场, 2/3" 传感器:

0.59mm

焦距 FL (mm):

13.30

生产商:

EO

支架:

RMS

模糊度 (%):

27.00

传输波前，RMS:

λ/14

工作距离 (mm):

23.75