Edmund 高性能反射光栅 #3837
高性能反射光栅设计用于提供一致且可预测的性能。这种高度的可重复性简化了OEM系统的设计,并且降低了对枯燥的校准调整的需求。这些光栅具有λ/4的反射波前和高达90%的衍射效率,设计为可满足最严苛应用的需求。高性能反射光栅带有裸铝膜,适用于300至1850nm的选件。
λ/4反射波前
出色的尺寸公差
槽间距公差<0.05%
森泉为您的科研事业添砖加瓦:
激光控制:激光电流源、激光器温控器、激光器控制、伺服设备与系统等等
探测器:光电探测器、单光子计数器、单光子探测器、CCD、光谱分析系统等等
定位与加工:纳米定位系统、微纳运动系统、多维位移台、旋转台、微型操作器等等
光源:半导体激光器、固体激光器、单频激光器、单纵模激光器、窄线宽激光器、光通讯波段激光器、CO2激光器、中红外激光器、染料激光器、飞秒超快激光器等等
光机械件:用于光路系统搭建的 gao 品 zhi 无应力光机械件,如光学调整架、镜架、支撑杆、固定底座等等
光学平台:主动隔振平台、气浮隔振台、实验桌、刚性工作台、面包板、隔振、隔磁、隔声综合解决方案等等
光学元件:各类晶体、光纤、偏转镜、反射镜、透射镜、半透半反镜、滤光片、衰减片、玻片等等
染料:激光染料、荧光染料、光致变色染料、光致发光染料、吸收染料等等