荷兰ISTEQ公司TEUS系列EUV光源

产品介绍：

ISTEQ公司开发了一种基于激光产生等离子体（LPP）的EUV光源。该光源具有极高的亮度和极高的稳定性。它采用可自刷新的材料，无需中断和更换燃料盒，因此持续运行时间极长。

ISTEQ公司为LPP光源开发的燃料是针对特定应用的光谱范围而设计的。然而，对于掩模检查的应用，公司开发了一种高频锡旋转靶，已在全球范围内获得专利。

产品特点：

·高亮度以及出色的稳定性

·最少的碎片

·极高的正常运行时间

·高占空比和交钥匙操作

·用户友好的自动化协议，确保系统平稳运行，没有中断的风险。

产品应用：

·掩模和表面检查：

·图案掩模检测 (PMI)

·区域掩模检测 (AIMS)

·掩模空白检测 (MBI)

·EUV 扫描仪检

·材料科学

·晶圆检查

型号参数：