Thorlabs 光学参考腔，带晶体膜反射镜

特性

应用

XM-ORC系列带晶体膜反射镜的光学参考腔是高精细度的法布里-帕罗谐振腔，非常适用于单模连续激光器的主动稳频。这些光学腔是与Menlo Systems合作设计的，集成了Thorlabs的高性能超级反射镜，包含1064 nm下精细度>200 000、1156 nm、1397 nm或1550 nm下精细度>300 000的版本。XM-ORC参考腔的热噪声艾伦偏差(ADEV)低至1.6 x 10-16，低频漂移约为150 mHz/s，非常适合需要超稳激光器的应用，比如高分辨率光谱学、量子计算和光钟。如需咨询其他中心波长的参考腔，请点击右侧的“Contact Me”。

每个系统在组装过程中经过烘烤，且包含用于温度控制和保持高真空的硬件；有关详情，请看发货清单标签。系统的底座是一块带#1/4英寸沉头孔和M6安装孔的面包板，可用于将参考腔固定到光学平台上。为了获得最佳性能，我们建议将系统安装在隔振平台上。 

光学接触键合的腔体
每个光学腔包含一个由超低膨胀(ULE)玻璃制成的12.1 cm圆柱形腔体，水平安装在密封不锈钢真空外壳内的四个支撑点上。耦入和耦出腔反射镜分别为凹面和平面，通过光学接触键合，其熔融石英基底上镀有Thorlabs基底转移晶体膜(xtal stable™)。此外，还包含ULE补偿环，以确保室温工作大致对应组装腔体的零膨胀温度。

每对镀有晶体膜的反射镜都通过腔衰荡装置单独测试，以确保在中心波长处具有超高的反射率和超低的透射率。每个腔体都有相应的数据表；单击此处查看示例。

为了避免标准具效应，腔体与耦入和耦出视口成小角度安装在真空室中，视口上包含镀AR膜的楔形窗片。从面包板底部开始测量，系统光轴为8.00英寸(203.30 mm)。

环境隔离
XM-ORC参考腔在具有主动温度稳定功能的高真空下工作，以减少腔长波动并提高锁模激光器的频率稳定性。为实现高真空度，额定泵速为10 L/s的离子吸气泵持续抽吸真空室，以维持< 10-7的气压。真空室还使用了CF法兰组件，通过刀口机制在匹配件之间形成气密密封。

XM-ORC参考腔包含NTC热敏电阻和珀尔帖加热元件，以便主动控制温度。还包含温度控制器，这是Thorlabs TED200C温度控制器的修改版，提高了系统的热负载能力。每个XM-ORC参考腔都随附一根电缆，用于将NTC和珀尔帖元件连接到温度控制器。

注意: XM-ORC参比腔附带的离子吸气泵只能在10-4 mbar以下的气压下工作。如要在密封室内建立真空，需要极限底压为10-4 mbar且泵速为10 L/hr的第三方干泵。真空室包括系统背面的DN40法兰，用于连接辅助泵。

产品规格image.png

注意.jpg

森泉为您的科研事业添砖加瓦：

激光控制：激光电流源、激光器温控器、激光器控制、伺服设备与系统等等

探测器：光电探测器、单光子计数器、单光子探测器、CCD、光谱分析系统等等

定位与加工：纳米定位系统、微纳运动系统、多维位移台、旋转台、微型操作器等等

光源：半导体激光器、固体激光器、单频激光器、单纵模激光器、窄线宽激光器、光通讯波段激光器、CO2激光器、中红外激光器、染料激光器、飞秒超快激光器等等

光机械件：用于光路系统搭建的 gao 品 zhi 无应力光机械件，如光学调整架、镜架、支撑杆、固定底座等等

光学平台：主动隔振平台、气浮隔振台、实验桌、刚性工作台、面包板、隔振、隔磁、隔声综合解决方案等等

光学y件：各类晶体、光纤、偏转镜、反射镜、tou射镜、半透半反镜、滤光片、衰减片、玻片等等

染料：激光染料、荧光染料、光致变色染料、光致发光染料、吸收染料等等