Edmund 高品质ReflX®反射物镜 #2965 

• 衍射极限性能：传输波前，RMS: λ/14

• 锥形设计可以在45度入射角的时候方便的安装和拆卸

• 为降低衍射效应采取了弯曲结构

• 另有 TECHSPEC® Reflx® 物镜 可供选择

我们的ReflX®反射物镜是和原来的反射物镜加了个可以减小P-V值的装置，可以在入射角为45度时使用。生产这种反射物镜的作用是可以达到λ/4P-V的波前，此时需要反射镜有很高的精度。为此我们的精加工中心使用QED Q22-MRF磁流体加工设备和QED SSI干涉仪来加工和检测我们的反射面形，此精度可以达到1/20ΛP-V值。

远场校正镜头可用于调焦，而有限共扼镜头可用于成像方面。当加一个200mm的二级转接镜头使，远场校正镜头也可用在成像方面。加上滤光片和分光镜后，本镜头可用在生物医疗和荧光显微方面。远场镜头的标准后截距为160mm,可与普通的DIN镜头互换.值得注意的是受光路结构的限制，这两款镜头的像面中心的亮度低，比较朦胧。

在许多情况下需要一个入射角大于45度的阵列，为了适应这些不常见的角度，惠普的ReflX®，使用锥形设计提供了一个距离物面大于6mm。

为了消除由直纹导致像面的衍射效应，惠普的ReflX®，采用了一个弯曲设计，所有的内部结构都在美国加工、装配、测试、并用ZYGO 干涉仪认证,而且每一个面都认证。对于客户的要求，包括激光镀膜和不同的腔长，请与我们的销售部门联系。

技术支持

森泉为您的科研事业添砖加瓦：

激光控制：激光电流源、激光器温控器、激光器控制、伺服设备与系统等等

探测器：光电探测器、单光子计数器、单光子探测器、CCD、光谱分析系统等等

定位与加工：纳米定位系统、微纳运动系统、多维位移台、旋转台、微型操作器等等

光源：半导体激光器、固体激光器、单频激光器、单纵模激光器、窄线宽激光器、光通讯波段激光器、CO2激光器、中红外激光器、染料激光器、飞秒超快激光器等等

光机械件：用于光路系统搭建的 gao 品 zhi 无应力光机械件，如光学调整架、镜架、支撑杆、固定底座等等

光学平台：主动隔振平台、气浮隔振台、实验桌、刚性工作台、面包板、隔振、隔磁、隔声综合解决方案等等

光学y件：各类晶体、光纤、偏转镜、反射镜、tou射镜、半透半反镜、滤光片、衰减片、玻片等等

染料：激光染料、荧光染料、光致变色染料、光致发光染料、吸收染料等等