ioNext工艺流程

ioNext波导是在需要刻蚀的掩模板选择性掺杂，然后通过掩模+光刻工艺在相应的体玻璃基底上形成具有精确控制的MFD和有效折射率的渐变折射率波导。

订购需求：

l  设计服务：从概念到GDS文件

l  流程设计包：带精确波导模型，可提供给用户

l  带尾纤和测试服务：为实验室提供元器件

l  短周期：从GDS到芯片，1个月的周期

l  掺铒平台：为激光器和放大器设计