应用：

   1.CIGS太阳能电池无镉缓冲层沉积

   2.晶硅太阳能电池表面钝化层沉积

   3.大规模生产的应用

   4.工业全自动生产设备

   5.高产量：高达4500晶片/小时(156 X 156 m㎡)

特征：

   1.良好的厚度＆均匀性好的Al2O3薄膜

   2.用于短气体循环时间的先进工艺套件和小体积

   3.具体化的ALD机械装置

   4.全集成工艺模块

   5.操作过程简单

   6.自动式操作

技术规格：

ModelMaterialWafer Size(mm2)Thickness (nm)Throughput(wph)
LucidaTM GS200Al2O3156x1564≥550
LucidaTM GS800Al2O3156x1564≥2300
LucidaTM GS1200Al2O3156x1564≥3400
LucidaTM GS1600Al2O3156x1564≥4500
LucidaTM GS6000Al2O3156x1564≥6000