Photonic Professional GT2:微纳加工的革新者
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Photonic Professional GT2:微纳加工的革新者
在微纳加工的世界里,Nanoscribe的Photonic Professional GT2犹如一颗璀璨的明星,以其卓越的性能和无与伦比的精度,引领着科学研究和快速成型的潮流。这款三维微纳加工设备,不仅集成了多种微加工模组,更是科学研究和快速成型的多用途设备,为快速手板制作和超精密微加工提供了精度最高的3D无掩模光刻解决方案。
1.关键特性
1.1专用于科学研究和快速成型:Photonic Professional GT2专为科研和快速成型设计,装配有galvo振镜模组,实现了高速三维超精密加工。
1.2亚微米特征尺寸的设计自由度:在亚微米特征尺寸上,该设备实现了完全的三维设计自由度,为微流道、微机械、生物医学工程等领域提供了无限可能。
1.3直接使用CAD生成的STL格式三维模型进行加工:简化了无掩模光刻工作流程,使得加工过程更加直观和高效。
2.广泛的印刷材料-基材选择:为多尺度和多领域的三维微加工量身定制解决方案,支持广泛的材料和基板选择。
3.技术参数
3.1无掩模光刻技术:采用逐层双光子光固化技术,实现了三维最小横向特征尺度可达160 nm,二维横向分辨率400 nm,最佳纵向分辨率1,000 nm。
3.2最大加工体积:最大加工体积达到100 x 100 x 8 mm³,为大尺寸微纳结构的加工提供了可能。
3.3最佳平面粗糙度Ra:最佳平面粗糙度Ra≤20 nm,保证了加工表面的高精度和平滑度。
4.应用领域
Photonic Professional GT2的多功能性在多个领域中协助完成了关键性创新,包括机械超材料、光学超材料、自由曲面光学元件、可操控的微马达和具有生物兼容性的细胞支架等。这些成果不仅在同行评审的期刊出版物中得到广泛认可,也成为突破性研究的例证。
5.为什么选择Nanoscribe
作为技术先驱和市场领导者,Nanoscribe是您在高精度无掩模光刻领域的可靠伙伴。我们的客户包括全球顶尖大学和高科技企业,如哈佛大学、加州理工大学、华为技术有限公司、美国苹果公司等。我们提供便捷的解决方案,将用户的灵感和想法变为实物,帮助他们实现突破性的创新。
6.客户支持与技术服务
我们的多语种技术服务团队为您提供全方位的客户支持,包括装机调试、定时维护和故障修理、使用培训课程、在线知识库NanoGuide、电话、电子邮件和远程支持等。我们致力于提供超越基础应用的技术支持,以及延长保养和保修选项,提供升级和搬迁服务。
选择Nanoscribe的Photonic Professional GT2,让我们一起开启微纳加工的新篇章,探索科学的无限可能。
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