Advanced Photonics又又叒拿一稿，滨松SLM助力突破光学衍射极限
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继Science又拿一稿，滨松SLM参与飞秒激光极端制造新突破之后，滨松空间光调制器（SLM）又一次成为浙江大学、之江实验室超分辨双光子聚合系统光场调控的核心器件。
最近，浙江大学、之江实验室刘旭教授和匡翠方教授团队基于前期远场超分辨技术的研究经验，提出了一种新型的双通道激光纳米直写方法。该方法突破了光学衍射极限，提高了激光直写“打印”的精度和速度。
研究成果以“Direct laser writing breaking diffraction barrier based on two-focus parallel peripheral-photoinhibition lithography”为题发表在Advanced Photonics 上。
采用激光直写打印比特点结构在大数据光存储方面具有极大的应用潜力。图4展示了双通道系统在打印比特点图案上的能力，其中，（a）图是打印结果的扫描电子显微镜图，（b）、（c）图分别是（a）中黄色和蓝色方框的放大图，比特点的水平和垂直间距为200 nm，比例尺为1 μm。(a)图中的上半部分采用边缘光抑制打印，点结构间隙清晰可辨；相比之下，采用传统双光子打印的下半部分，点结构十分模糊。正常的单光束路径系统中，这两行必须单独打印；而在双通道系统中，两个图案可同时打印，可见该方法的效率是普通单光路系统的两倍。
为了测试实际3D纳米结构的并行打印效果，研究人员还打印了超材料结构立方体。打印结果如图5所示。
刘旭教授和匡翠方教授团队在使用过滨松的SLM后表示：
系统中采用的两款滨松SLM分别用于实现对780 nm脉冲激发光和532 nm连续抑制光的调控。滨松SLM在超分辨双光子聚合系统作为光场调控的核心器件表现不俗，具有诸多优势功能：
具备完备的二次开发包及例程，方便科研人员完成自定义功能和应用程序开发；
高效率：采用介质反射膜，95%光利用率，充分利用激光能量；
低吸收、高损伤阈值：可使用较高功率激光以实现多路并行操作，即使在无水冷情况下也具备高功率适应性和稳定性；
精密准确的位相调节和位相稳定性：满足十纳米量级超分辨双光子聚合对光斑、对准、指向性的精密控制和稳定运行的要求；
外形设计简洁、紧凑，使用方便，易于集成。
图7 论文原文：滨松SLM可进行多焦点并行加工
滨松早在1980年就已经开始了空间光调制器的研发历程。本着探索人类未知未涉的精神，一代一代产品的更新换代，一代一代技术的推陈出新，到今年已经走过了42个年头。
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